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Hiden Analytical
我們設計、開發和製造用於高級研究應用和專業過程監測的四極桿質譜儀。
我們的產品範圍包括：用於實時精確氣體分析的系統，多種氣體/蒸氣分析。通過直接測量Plasma離子和離子能量進行診斷。用於超高壓表面科學的SIMS探針，以及蝕刻終點檢測。具有自動分析功能的綜合完整的表面分析SIMS系統。一系列用於催化劑研究的微爐反應器，用於進行溫度編程分析，技術包括TPO/TPD/TPR和TPRx。
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用於殘餘氣體分析。Hiden HALO系統設計用於RGA、氣體分析和過程監控應用，包括真空指紋分析、洩漏檢測和趨勢分析。Learn MoreHALO -
用於檢查存在於容器中或從一個過程中演變出來的成分的系統。即時測量氣體和蒸氣的濃度。Learn MoreRGA Series -
一台用於真空指紋分析、洩漏檢測和趨勢分析的殘餘氣體分析儀。Learn MoreHALO RGA -
一系列的電子衝擊離子源，可與我們的任何殘餘氣體分析儀一起提供。為特定應用配置殘餘氣體分析儀，例如分子束分析。Learn MoreIon Source Options -
一個雙模式的RGA系統，用於真空診斷和過程監測，無需差分泵。測量殘餘氣體、工藝污染物並提供洩漏檢測。Learn MoreHMT -
為高要求的UHV應用而配置的殘餘氣體分析儀。即時測量氣體和蒸汽的濃度。Learn MoreHAL 201 RC -
為分子束外延應用配置的殘餘氣體系統。測量殘餘氣體，提供MBE系統的污染和洩漏檢測。Learn MoreHALO 201 MBE -
一個用於分析中性物質、自由基和離子的UHV系統。在UHV/XHV中測量離子、中性物質和部分壓力。Learn MoreEPIC / EPIC 1000 Series -
一個用於分析超高真空解吸研究中的離子、中性物質和自由基的系統。在電子和光子刺激的解吸中測量離子和中性物質。Learn MoreIDP / IDP 1000 Series