協助清華大學導入極智芯 AE/AER 系列離子束刻蝕系統 並規劃串接 Hiden IMP-EPD 系統

2025 年 7 月，恩詠有限公司（ENYONGTEC Ltd.）很榮幸協助國立清華大學完成極智芯（AcmePole）AE/AER 系列 離子束刻蝕 / 反應離子束刻蝕系統 (IBE/RIBE) 的採購與建置。

本次專案由恩詠提供全程技術支援與專業服務，從採購進口，到現場安裝、調試與操作訓練，確保設備順利運作並符合使用需求。AE/AER 系列作為極智芯的旗艦產品之一，可實現高精度的物理刻蝕與化學輔助刻蝕，並提供靈活的入射角度、旋轉速度、溫度控制與終點檢測等功能，適用於多種高科技材料的微結構加工。

此外，未來規劃在該系統上整合安裝 Hiden Analytical 的 IMP-EPD 離子與能量分佈探測系統，透過專業的軟硬體串接實現 實時監測離子束的能量分佈與化學成分。Hiden IMP-EPD 系統與 AE/AER 系列的結合，可同步獲取刻蝕過程中離子束的各項參數，為科研人員提供完整的刻蝕工藝監測與優化數據，有效提升製程的一致性、準確性及研發效率。

恩詠團隊秉持「專業、誠信、服務」的理念，未來也將持續支持國內外客戶的研究與製程發展，提供最可靠的技術與解決方案。如需更多產品資訊，歡迎參閱 Hiden IMP-EPD 商品頁面 或 聯絡我們。