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2025.06.18
恩詠活動
國家儀科中心導入 Hiden 3F PIC RGA 助力極紫外光微影製程研發
財團法人國家實驗研究院國家儀器科技研究中心，正式導入 Hiden 3F PIC 型殘餘氣體分析儀（RGA）， 應用於「極紫外光微影製程與設備檢測開發」計畫。
Hiden 3F PIC RGA 採用三重濾波質譜技術（Triple Filter Mass Spectrometer），具備高質量分辨率與寬動態範圍，可在高真空與超高真空條件下精準監測各種氣體成分，特別適用於先進光刻及半導體製程的製程監控與污染分析。
- 高靈敏度：有效分辨相鄰質量數訊號，避免干擾。
- 快速響應：即時回饋氣體變化數據，確保製程穩定。
- 靈活整合：支援多種控制介面，方便與現有製程系統串接。
此次安裝與調試過程順利完成，設備已正式投入使用。恩詠有限公司感謝國家儀科中心對 Hiden 品牌的信任與支持，並將持續提供專業技術服務，協助研究團隊在極紫外光微影技術領域邁向新里程碑。
財團法人國家實驗研究院國家儀器科技研究中心，正式導入 Hiden 3F PIC 型殘餘氣體分析儀（RGA）， 應用於「極紫外光微影製程與設備檢測開發」計畫。
Hiden 3F PIC RGA 採用三重濾波質譜技術（Triple Filter Mass Spectrometer），具備高質量分辨率與寬動態範圍，可在高真空與超高真空條件下精準監測各種氣體成分，特別適用於先進光刻及半導體製程的製程監控與污染分析。
- 高靈敏度：有效分辨相鄰質量數訊號，避免干擾。
- 快速響應：即時回饋氣體變化數據，確保製程穩定。
- 靈活整合：支援多種控制介面，方便與現有製程系統串接。
此次安裝與調試過程順利完成，設備已正式投入使用。恩詠有限公司感謝國家儀科中心對 Hiden 品牌的信任與支持，並將持續提供專業技術服務，協助研究團隊在極紫外光微影技術領域邁向新里程碑。