用於真空過程分析的殘餘氣體分析系統

HPR-30系列是殘餘氣體分析系統，配置用於分析真空過程中的氣體和蒸汽，並用於真空診斷，具有從高真空到大氣壓的採樣能力。該系統可完全配置用於個別過程應用，如CVD、ALD、等離子體刻蝕、MOCVD、過程氣體純度和過程中污染物監測。

概述

HPR-30系列系統設計用於對真空過程中的氣體和蒸汽種類進行快速回應的高靈敏度分析。應用包括洩漏檢測、污染監測、過程趨勢分析以及ALD和MOCVD應用中使用的高品質物種和前驅物的分析。

採樣配置提供如下：

• HPR-30 cart 帶有雙電導取樣入口，具有緊密耦合的再入孔，可直接在過程區域內取樣，提供最大的資料完整性和快速確認過程狀態。
• HPR-30 Multi inlet cart 具有多個靈活的入口，1米長，三閥組連接，具有自動切換功能，可在廣泛的過程壓力範圍內進行分析。
• HPR-30 SGL 帶有單一的加熱採樣管，適用於採樣連接的工具空間有限，以及分析揮發性較低的反應產物的要求需要完全加熱的入口解決方案的應用。適合脈衝沉積過程監測的時間分辨資料獲取作為一個系統選項提供。

選項包括創新的Hiden 3F系列三濾四極杆系統，提供更高的豐度靈敏度、十億分之一（ppb）的檢測水準和高抗污染性，特別適合於分析CVD和RIE應用中的腐蝕性氣體。

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