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XBS


 

 

用於MBE沉積應用中的多源監控系統

 

分子束源需要精確控制,以實現可重複的生產品質的薄膜生長。Hiden的XBS(交叉束源)系統提供了對多個源的原位監測,並有即時信號輸出,以實現對沉積的精確控制。


Hiden的XBS是用於分子束質譜分析的一個很好的工具。


 

 

概述

Hiden XBS RC系統是一個四級杆質譜儀,設計用於同時監測多個光束源,其獨特之處在於通過一個橫向於四級杆軸的70°錐體提供光束接受。


光束接受孔為每個特定的處理室源位置單獨配置,製造成可替換的外掛程式,以便在處理室發生變化時進行追溯修改。


XBS系統的高靈敏度和快速資料獲取為控制每秒0.01埃的生長速率提供了信號。

   

 

 

產品特色

 

 

高靈敏度,增強了從100%到5ppb的檢測能力,品質範圍達到510 amu

 

  增強的長期穩定性(24小時內高度變化小於±0.5%)
 

  橫樑式離子源,橫軸上的光束接受度為+/- 35°
 

  用於軟電離和外觀電位質譜的離子源控制
 

  高品質傳輸的增強靈敏度,自動品質尺規校準
 

  2毫米的光束接受孔徑 - 根據使用者的具體應用進行配置
 

  通過純射頻預過濾階段增強抗污染能力
 

  整體的UHV相容水冷護罩
 

  在分子束研究中,檢測極限低至30個離子/秒
 

  監測增長速度為1Å/分鐘及以下
 

  基於Windows™的MASsoft控制,通過RS232、USB或乙太網LAN進行控制
       

 

 

下載

 
    演講稿:  
  用於殘餘氣體分析的質譜儀 - RGA | 在真空環境中的應用  
       
       
   
 

相關產品

 
  HALO 201 MBE  
  RGA Series  
  Ion Source Options  
       
   

 

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分子束源需要精確控制,以實現可重複的生產品質的薄膜生長。Hiden的XBS(交叉束源)系統提供了對多個源的原位監測,並有即時信號輸出,以實現對沉積的精確控制。


Hiden的XBS是用於分子束質譜分析的一個很好的工具。

 

 

概述

Hiden XBS RC系統是一個四級杆質譜儀,設計用於同時監測多個光束源,其獨特之處在於通過一個橫向於四級杆軸的70°錐體提供光束接受。


光束接受孔為每個特定的處理室源位置單獨配置,製造成可替換的外掛程式,以便在處理室發生變化時進行追溯修改。


XBS系統的高靈敏度和快速資料獲取為控制每秒0.01埃的生長速率提供了信號。

 

產品特色

 

高靈敏度,增強了從100%到5ppb的檢測能力,品質範圍達到510 amu

 

增強的長期穩定性(24小時內高度變化小於±0.5%)

 

橫樑式離子源,橫軸上的光束接受度為+/- 35°

 

用於軟電離和外觀電位質譜的離子源控制

 

高品質傳輸的增強靈敏度,自動品質尺規校準

 

2毫米的光束接受孔徑 - 根據使用者的具體應用進行配置

 

通過純射頻預過濾階段增強抗污染能力

 

整體的UHV相容水冷護罩

 

在分子束研究中,檢測極限低至30個離子/秒

 

監測增長速度為1Å/分鐘及以下

 

基於Windows™的MASsoft控制,通過RS232、USB或乙太網LAN進行控制

     

 

 

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