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IMP-EPD


 

 

一個用於離子蝕刻控制和最佳工藝品質的系統

 

IMP-EPD是一個差分泵,堅固耐用的二次離子質譜儀,用於分析離子束蝕刻過程中的二次離子。該系統包括集成的軟體,具有為優化程序控制而開發的過程特定演算法。


 

 

概述

IMP-EPD是一個差分泵,堅固耐用的二次離子質譜儀,用於分析來自離子束蝕刻過程的二次離子。該系統包括集成的軟體,具有為最佳工藝控制而開發的特定工藝演算法。


IMP-EPD系統在生產高規格薄膜設備的過程中得到了驗證,其應用包括磁性薄膜、高溫超導體和III-V半導體。

   

 

 

產品特色

 

 

帶有脈衝離子計數檢測器的高靈敏度SIMS/MS

 

  三重過濾四極杆,300 amu品質範圍是標準配置
 

  帶安裝法蘭的差分泵歧管,用於加工室
 

  帶能量分析器的離子光學系統和集成電離器
 

  潘寧測量儀和聯鎖裝置,提供過壓保護
 

  資料系統與工藝工具集成
 

  穩定性(24小時內高度變化小於±0.5%)
 

  通過RS232、RS485或乙太網LAN進行MASsoft控制
 

  可程式設計的DDE,平行數位I/O,RS232腳本通信
       

 

 

下載

 
    演講稿:  
  IMP EPD - 端點檢測器,用於離子束蝕刻的Hiden Analytical SIMS端點檢測器系統概述  
       
   
 

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  PSM  
       
       
   

 

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概述

IMP-EPD是一個差分泵,堅固耐用的二次離子質譜儀,用於分析來自離子束蝕刻過程的二次離子。該系統包括集成的軟體,具有為最佳工藝控制而開發的特定工藝演算法。


IMP-EPD系統在生產高規格薄膜設備的過程中得到了驗證,其應用包括磁性薄膜、高溫超導體和III-V半導體。

 

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帶有脈衝離子計數檢測器的高靈敏度SIMS/MS

 

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帶安裝法蘭的差分泵歧管,用於加工室

 

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潘寧測量儀和聯鎖裝置,提供過壓保護

 

資料系統與工藝工具集成

 

穩定性(24小時內高度變化小於±0.5%)

 

通過RS232、RS485或乙太網LAN進行MASsoft控制

 

可程式設計的DDE,平行數位I/O,RS232腳本通信

     

 

 

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