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用於等離子體診斷的品質和能量分析器

 

Hiden 等離子體探頭測量一些關鍵的等離子體參數,並提供與等離子體反應化學有關的詳細資訊。


 

 

概述

一系列的工業過程都在使用等離子體,而且新的應用正在迅速發展。在微電子工業中,更高的產量和縮小的設備幾何尺寸的要求意味著工藝的可重複性和理解是至關重要的。


對等離子體離子和中性物種的反應動力學的詳細瞭解在先進的表面工程工藝(如HIPIMS)的發展中起著關鍵作用。

   

 

 

產品特色

 

 

帶安裝法蘭的差分泵歧管,與處理室相連

 

  高靈敏度/高穩定性的三濾四極杆,品質範圍可選擇到510amu
 

  脈衝離子計數檢測器,有7個十年的動態範圍
 

  通過極點偏壓掃描100eV的能量分析選項
 

  離子提取/排除光學系統,帶有可調整的集成電離器,用於外觀電位MS
 

  提供過壓保護的潘寧表和聯鎖裝置
 

  用於脈衝等離子體中時間分辨研究的信號門控和可程式設計信號門控選項
 

  中性物質和自由基的分析為標準,+-v/-v離子分析選項
 

  Mu-Metal、Radio-Metal 遮罩選項,高壓操作選項
 

  通過RS232、RS485或乙太網LAN進行MASsoft控制
       

 

 

下載

 
    演講稿:  
  信號門控和MCS  
   
海報:
 
  表面屏障放電中CF3I分解的品質分析 - GEC 2011  
  高光譜儀源壓力下氣體分析和處理等離子體中可轉移原子物種的質譜分析 - AVS 2011  
  等離子體處理過程中可轉移物質的質譜分析 - GEC 2011  
  HIPIMS的時間分辨電離研究 - PSE 2006  
       
   
 

相關產品

 
  EQP Series  
  ESPion  
       
       
       
   

 

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Hiden 等離子體探頭測量一些關鍵的等離子體參數,並提供與等離子體反應化學有關的詳細資訊。

 

 

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一系列的工業過程都在使用等離子體,而且新的應用正在迅速發展。在微電子工業中,更高的產量和縮小的設備幾何尺寸的要求意味著工藝的可重複性和理解是至關重要的。


對等離子體離子和中性物種的反應動力學的詳細瞭解在先進的表面工程工藝(如HIPIMS)的發展中起著關鍵作用。

 

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帶安裝法蘭的差分泵歧管,與處理室相連

 

高靈敏度/高穩定性的三濾四極杆,品質範圍可選擇到510amu

 

脈衝離子計數檢測器,有7個十年的動態範圍

 

通過極點偏壓掃描100eV的能量分析選項

 

離子提取/排除光學系統,帶有可調整的集成電離器,用於外觀電位MS

 

用於脈衝等離子體中時間分辨研究的信號門控和可程式設計信號門控選項

 

中性物質和自由基的分析為標準,+-v/-v離子分析選項

 

Mu-Metal、Radio-Metal 遮罩選項,高壓操作選項

 

通過RS232、RS485或乙太網LAN進行MASsoft控制

     

 

 

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