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- Hiden Analytical
- Residual Gas Analysis
- Ion Source Options
Ion Source Options
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產品特色 |
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標準的燈絲材料是氧化塗層的銥合金 |
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可根據要求提供其他材料 | ||
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離子源選項是可以互換的 | ||
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可提供開放式和封閉式離子源 | ||
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可提供一系列的交叉束源 | ||
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可提供標準和低矮的選項 | ||
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一系列用於殘餘氣體分析的離子源選項
Hiden生產了多種離子源類型，可以安裝在我們全系列的RGA中。離子源類型對RGA的性能至關重要，能夠指定您所需要的離子源，可以確保我們的RGA為特定的應用進行定制配置。
概述
標準RGA：一般應用的徑向對稱配置。
UHV低輪廓：優化用於UHV TPD研究，使離子源更接近演化表面。
封閉源：用於高壓研究，直接輸入氣體，與分析器的差分泵階段一起使用。
XBS交叉光束：專門配置用於MBE沉積率監測和控制。
基本交叉光束：用於分析分子束，其中光束可能會在電離器表面凝結。該源的特點是通過源的電離區有一條無障礙通道。可使用外部護罩來保護四極品質篩檢程式免受凝結物的影響。
鐳射交叉束源：包括兩個正交的無障礙通道，用於源籠區域內的鐳射質子電離，提供電子撞擊和電子附著電離的替代方案。
4個透鏡離子光學系統與集成電離器：此外，還可以分析分析儀外部產生的低能量正離子和負離子。用於電子、光子和鐳射激發的解吸研究。
鉑金離子源：這種源的配置是為了改善在反應性氣體中的操作。徑向對稱，相容UHV。
鍍金離子源：這種離子源的配置是為了最大限度地減少源放氣的影響。徑向對稱，相容UHV。可作為標準或低矮的選項。
產品特色 |
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標準的燈絲材料是氧化塗層的銥合金 |
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可根據要求提供其他材料 |
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離子源選項是可以互換的 |
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可提供開放式和封閉式離子源 |
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可提供一系列的交叉束源 |
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可提供標準和低矮的選項 |
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