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Hiden Analytical
我們設計、開發和製造用於高級研究應用和專業過程監測的四極桿質譜儀。
我們的產品範圍包括：用於實時精確氣體分析的系統，多種氣體/蒸氣分析。通過直接測量Plasma離子和離子能量進行診斷。用於超高壓表面科學的SIMS探針，以及蝕刻終點檢測。具有自動分析功能的綜合完整的表面分析SIMS系統。一系列用於催化劑研究的微爐反應器，用於進行溫度編程分析，技術包括TPO/TPD/TPR和TPRx。
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IG5C的特點是低功率、高亮度、表面電離源與一個緊湊的離子柱相配合，在一個小包裝中提供高性能。IG5C被設計為所有SIMS應用的主要離子束，包括動態、靜態和成像。Learn MoreIG5C -
Hiden IG20主要為氧氣相容而設計，是一種高性能的電子衝擊離子源，具有高電流密度，可產生直徑僅為100微米（µm）的強光。Learn MoreIG20 -
高精度質譜儀專用離子源，適用於 RGA、TPD、MBE、SIMS 等應用，具備多種設計選項，包括標準源、低剖面、交叉束與雷射離子源，滿足多樣化實驗與工業需求。Learn More離子源 Ionizer – RGA / 氣體分析專用 -
用於檢查存在於容器中或從一個過程中演變出來的成分的系統。即時測量氣體和蒸氣的濃度。Learn MoreRGA Series -
一台用於真空指紋分析、洩漏檢測和趨勢分析的殘餘氣體分析儀。Learn MoreHALO RGA -
一系列的電子衝擊離子源，可與我們的任何殘餘氣體分析儀一起提供。為特定應用配置殘餘氣體分析儀，例如分子束分析。Learn MoreIon Source Options -
一個雙模式的RGA系統，用於真空診斷和過程監測，無需差分泵。測量殘餘氣體、工藝污染物並提供洩漏檢測。Learn MoreHMT -
為高要求的UHV應用而配置的殘餘氣體分析儀。即時測量氣體和蒸汽的濃度。Learn MoreHAL 201 RC -
為分子束外延應用配置的殘餘氣體系統。測量殘餘氣體，提供MBE系統的污染和洩漏檢測。Learn MoreHALO 201 MBE